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　　（1）粉塵成因分析。目前，國內高速壓片機和篩片機在生產運行中所產生的粉塵，一般采用吸塵器提供負壓將其抽吸排除。但由于現有技術水平和意識的差距，設備本身的密封效果不理想，高速壓片機仍有部分粉塵外泄至凈化區(qū)域。高速壓片機此外，物料輸送或藥片轉序等過程產生的粉塵，也可能從有關銜接處直接外泄至凈化區(qū)域。

　　（2）凈化指標真實程度。我國現行的GMP的凈化級別主要關注靜態(tài)的指標。這種情況下，壓片過程中產生的粉塵往往被忽視了。而在歐美和日本等國家或地區(qū)，各項指標都是在實際生產過程的動態(tài)檢測，粉塵的釋放將直接影響工作區(qū)域內塵埃粒子的數量。顯然，后者的檢測數據比較真實。我國新版GMP主要參考歐盟GMP進行修改，新規(guī)范實施后凈化指標的檢測及評價理應與接軌。

　　（3）解決措施。高速壓片機為了降低壓片過程粉塵泄漏量，應著手提高設備的防護等級；制藥企業(yè)對設備供應商明確提出具體的密封與隔離要求，并對提供的隔離措施進行合理的評估。

　　其次，國產制藥裝備雖進步不小，有的替代進口的機型，并有一定的出口量，但仍普遍存在差距。高速旋轉式壓片機等自動化程度較高的設備，高速壓片機在片劑生產工藝過程中占據著重要地位，高速壓片機很大程度上決定著片劑質量。高速壓片機因此，許多制藥企業(yè)對這類光機電一體化設備的各項功能及其各系統(tǒng)的設計提出了具體要求，這是一個促進我們縮短“理念差距”的契機。